주메뉴바로가기 본문바로가기
닫기

더욱 빠른 소자에 대한 요구 가열되는 국제 경쟁, 누가 주도권을?

더 많은 회로의 집적을 위한 소자와 X-선 부식인쇄(애칭)의 비밀더 많은 회로의 집적을 위한 소자와 X-선 부식인쇄(애칭)의 비밀

일본의 가열된 분위기와 함께 미국은 엄청난 용량의 증가를 보장하는 X-선 기술의 개발을 시작했다.현재의 반도체 소자 제조 기술이 한계에 도달했다고 생각하는 과학자들이, 더욱 빠르고 더 큰 용량의 소자를 개발하기 위하여 X-선을 이용하기 시작하면서 반도체 소자 제조에 있어서 우위를 선점하려는 경쟁은 이제 새로운 국면으로 접어 들었다.1990년대 중반에는 이 ...(계속)

글 : 뉴욕타임즈

과학동아 1988년 04호

태그

이전
다음
1
과학동아 1988년 04호 다른추천기사
이 기사를 읽은 분이 본
다른 인기기사는?
각광받는 식용버섯들
PART I 세계적으로 드문 독특한 조건 황해는 어떤 바다인가
PART II 간척·항만건설·조력발전 등 개발의 명암
대분화를 일으킨 세계의 화산
봄에 사람을 괴롭히는 화분증
  • 동아사이언스 바로가기
  • 과학동아 사이언스보드 바로가기
  • 어린이과학동아 어린이수학동아 바로가기
  • 폴리매스 바로가기
  • DS스토어 바로가기
  • 디라이브러리 바로가기
  • 과학동아천문대 바로가기
  • ㈜동아사이언스 | 등록번호 : 서울 아04396 | 등록일자 : 2017년 3월 2일 | 제호 : 동아사이언스 | 발행인 : 장경애 | 편집인 : 김민수
  • ㈜동아사이언스 디라이브러리 | 대표 : 장경애 | 개인정보관리책임자 : 최수정(privacy@dongascience.com) | 청소년보호책임자 : 신한식
  • 서울시 용산구 청파로 109, 7층 (04370) ｜ 문의 : 02-6749-2000 ｜팩스 : 02-3148-0789 ｜사업자등록번호 : 101-81-62201 (사업자정보확인)
  • 통신판매업신고번호 : 제2013-서울용산-01101호 ｜온라인 결제를 위한 PG사의 구매안전서비스(가입사실 확인)
  • Copyright © Dongascience. All right reserved.

  • 폴리매스 문제는 2019년도 정부의 재원으로 한국과학창의재단의 지원을 받아 수행된 성과물입니다.

  • ☎문의 02-6749-3911