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국내외 한국과학기술자 학술회의 추계 웍샵이 10월20~22일간 한국과학기술단체총연합회(회장 조완규) 주최로 열린다. 저명한 외국의 한국과학기술자를 초빙하여 첨단과학기술의 습득과 국내학자와의 정보교환을 주목적으로 하는 이번 웍샵은 신소재, 반도체 및 산업기반기술의 3개 분과로 나뉘어 진행된다. 국외 초청연사는 분과당 4명씩 총 12명이다.
 

인하대학에서 열리는 신소재 분과는 정밀요업(파인 세라믹스)과 금속재료(자성재료)의 두 과제를 다루며 미국에서 안태문(토마스 왓슨 연구센터), 마태일(유니버살 에너지 시스템사)박사 등이 참석할 예정이다.
 

서울대학교에서는 VLSI반도체기술을 다룰 예정이며 강성모(일리노이대), 홍성재(GE사)박사 등이 강연을 한다.
 

산업기반기술 분과는 주로 중소기업이 담당하는 우리나라의 취약분야로서 이번에는 염색가공기술을 과제로 삼고 있다. 웍샵 장소는 대구 공업단지이며 권기중(미국 개스턴카운티 염색기계사), 박희각(일본마츠야마 염색기술사)박사 등이 초청될 예정이다.
 

주최측은 재외 과학기술자들이 웍샵이 끝난 후 산업체, 연구소, 대학 등에서 강연, 세미나, 기술자문을 할 수 있도록 주선해줄 것이라고 한다.